【天天熱聞】ASML嚇壞？俄羅斯放狠話加快自研光刻機 能產(chǎn)7nm芯片：合作伙伴敲定

(資料圖)

快科技5月2日消息，據(jù)俄羅斯媒體報道稱，為了推進自研光刻機進度，其已經(jīng)敲定了相關的合作伙伴。

據(jù)悉，俄羅斯方面將為兩大白俄羅斯微電子領域項目提供約100億盧布信貸支持，受資助企業(yè)包括集成電路成套工藝領域的Integral和精密光刻設備領域的Planar。

白俄羅斯方面還透露，已經(jīng)簽署了關于建立兩國光掩模開發(fā)和生產(chǎn)聯(lián)合中心的協(xié)議。”這將使我們能夠開展聯(lián)合開發(fā)工作并減少白俄羅斯和俄羅斯消費者對進口供應的依賴”。

資料顯示，Planar公司（KBTEM-OMO）是東歐最大的半導體設備供應商，已有50余年的半導體設備研發(fā)與制造歷史，其產(chǎn)品包括基于激光直寫的圖形發(fā)生器、掩模檢測設備、掩模修補設備、接近/接觸光刻機、投影光刻機與硅片檢測設備等。

在這之前，俄羅斯科學院發(fā)豪語2028年自行研發(fā)的光刻機將問世，可生產(chǎn)出7nm芯片。據(jù)報道，國際制裁對俄羅斯斷供后，造成俄國芯片短缺，加以美國、英國和歐盟也祭出多項制裁，幾乎所有擁有先進晶圓制造商都停止與俄羅斯實體合作，ARM也無法將他們的技術授權給俄羅斯的芯片設計師。

俄羅斯大諾夫哥羅德策略發(fā)展機構發(fā)豪語，宣稱俄羅斯科學院旗下應用物理研究所將會跌破所有人眼鏡，在2028年開發(fā)出可以生產(chǎn)7納米芯片的光刻機，還可擊敗ASML同類產(chǎn)品。

俄羅斯科學院納米結構研究所副所長表示，全球光刻機領導者ASML 近20 年來一直致力于EUV 曝光機，目標是讓世界頂尖半導體廠商保持極高的生產(chǎn)效率。

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責任編輯：Rex_02