眾所周知，在芯片制造過(guò)程中，光刻膠是一項(xiàng)非常重要的材料。
因?yàn)樾酒M(jìn)行光刻工藝時(shí)，就是利用投影原因，光線將芯片電路圖，照射在涂了光刻膠的硅晶圓片上，然后光刻膠見光就會(huì)發(fā)生變化。
與光刻機(jī)對(duì)應(yīng)，光刻膠也按工藝劃分，有g(shù)線、i線、KrF、ArF、EUV這么5種。
(資料圖)
g線、i線主要用于250nm以上工藝，KrF一般用于250nm-130nm工藝，ArF一般用于130nm-14nm，而EUV用于EUV光刻工藝，主要用于7nm以下工藝。
國(guó)內(nèi)g線、i線、KrF工藝上能夠生產(chǎn)光刻膠，但自給率不高，g線、i線在20-30%左右，而KrF在5-10%左右。ArF在2022年前國(guó)內(nèi)自給率基本接近于0，至于EUV就想都沒想了，目前全球僅日本能夠生產(chǎn)EUV光刻膠。
從全球光刻膠市場(chǎng)來(lái)看，日本掌握最領(lǐng)先的光刻膠配方和工藝，東京應(yīng)化、JSR、富士、信越化學(xué)、住友化學(xué)等日本廠商占據(jù)80%以上市場(chǎng)份額。
這樣的情況，對(duì)中國(guó)芯的發(fā)展，當(dāng)然非常不利，所以隨著國(guó)產(chǎn)芯片大發(fā)展，供應(yīng)鏈也是集體突破，所以這幾年國(guó)內(nèi)也有幾家光刻膠企業(yè)，在向ArF發(fā)起沖擊，想要在14nm及以上的工藝上實(shí)現(xiàn)0的突破，打破國(guó)外壟斷。
2022年就有好幾家企業(yè)表示，自己生產(chǎn)的ArF光刻膠，已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了60nm、45nm等工藝的覆蓋，并且接到了訂單等。
而6月2日，國(guó)產(chǎn)光刻膠大廠南大光電在互動(dòng)平臺(tái)上稱，公司開發(fā)了多款A(yù)rF光刻膠在下游客戶處驗(yàn)證，制程覆蓋28nm~90nm。
很明顯，南大光電再次打破了國(guó)外壟斷，畢竟28nm工藝的光刻膠，之前國(guó)內(nèi)是完全生產(chǎn)不出來(lái)的，只能從日本進(jìn)口。
目前美國(guó)正在逆全球化，聯(lián)手日本、荷蘭等，對(duì)中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)進(jìn)行打壓，所以半導(dǎo)體供應(yīng)鏈安全至關(guān)重要，光刻膠作為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)核心原材料，技術(shù)壁壘高，原料自主可控尤為關(guān)鍵。
希望更多的廠商，能夠在光刻膠、光刻機(jī)等等設(shè)備和材料上，不斷的突破，打破國(guó)外的壟斷，讓國(guó)外無(wú)法卡我們的脖子。
同時(shí)國(guó)產(chǎn)晶圓廠，也應(yīng)該努力的加強(qiáng)與國(guó)產(chǎn)供應(yīng)鏈的合作，及時(shí)試用產(chǎn)品，加快產(chǎn)品驗(yàn)證與導(dǎo)入速度，給國(guó)產(chǎn)供應(yīng)鏈以更好的成長(zhǎng)環(huán)境和基礎(chǔ)。
責(zé)任編輯：Rex_03
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