眾所周知，目前芯片制造均是采用光刻工藝，而光刻工藝下，光刻膠是非常重要的材料。
光刻膠是一種具有光敏化學(xué)作用的高分子聚合物材料，外觀上呈現(xiàn)為膠狀液體。涂在硅晶圓上，作為抗刻蝕層保護(hù)襯底表面。
【資料圖】
當(dāng)光刻機(jī)的光線照射至涂了光刻膠的硅晶圓上時，光刻膠就會發(fā)生變化，再經(jīng)過后續(xù)的刻蝕等工序之后，電路圖就會留在硅晶圓上了。
所以光刻膠在芯片制造中至關(guān)重要，同時光刻膠與芯片的工藝、光刻機(jī)的光線也是對應(yīng)的。
目前從市場來看，光刻膠分為g線、i線、KrF、ArF、EUV這么5種，對應(yīng)著不同的芯片工藝和光刻機(jī)的技術(shù)。
具體按照工藝來劃分的話，g線、i線主要用于250nm以上工藝，KrF一般用于250nm-130nm工藝，ArF一般用于130nm-14nm，而EUV用于EUV光刻工藝，主要用于7nm以下工藝。
從全球市場來看，光刻膠主要被日本廠商壟斷，特別是EUV光刻膠，目前全球僅日本廠商能夠生產(chǎn)。
2021年市場數(shù)據(jù)為：在g線/i線、KrF、ArF、EUV光刻膠市場中，日本企業(yè)的市占率分別為61%、80%、93%，100%，總體份額超過75%。
而之前有媒體報道稱，韓國廠商被日本卡脖子后，奮發(fā)圖強(qiáng)，也能夠生產(chǎn)EUV光刻膠了，但實(shí)際在市場上，還沒有具體見到。
而中國在光刻膠上面，高度依賴進(jìn)口，按照機(jī)構(gòu)給出的數(shù)據(jù)，目前在EUV光刻膠上，中國自給率為0，不過目前國內(nèi)也生產(chǎn)不了7nm及以下的芯片，沒有EUV光刻機(jī)，也用不上EUV光刻膠。
而在ArF這種用于130nm-14nm芯片光刻膠上，國產(chǎn)的自給率約為1%，99%需要進(jìn)口。不過近日有媒體報道稱，國產(chǎn)的ArF光刻膠已經(jīng)有突破了，南大光電已經(jīng)開發(fā)了多款A(yù)rF光刻膠在下游客戶處驗(yàn)證，制程覆蓋28nm~90nm，這算是巨大的驚喜了。
而用于250nm-130nm工藝的KrF光刻膠，國產(chǎn)自給率約為5%，也就是說還有95%要進(jìn)口，不過這一塊也不需太過于擔(dān)心，國產(chǎn)缺的是產(chǎn)能以及市場份額，不是技術(shù)，國外卡不住脖子。
在比較落后的g線、i線光刻膠上面，國產(chǎn)率超過20%了，畢竟這種技術(shù)門檻不高，之所以沒達(dá)到100%國產(chǎn)，原因更多的還是產(chǎn)能影響，不是技術(shù)。
可見發(fā)展中國芯，光刻膠也是需要突破的，EUV暫且不提，國內(nèi)暫時也用不上。但是ArF光刻膠，它是用于14nm-130nm的光刻膠，是當(dāng)前最重要的光刻膠之一了，也是國內(nèi)最需要的光刻膠，我們可不能被國外卡住了脖子，你覺得呢？
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